第325章 威胁系统出奇迹

会议城市在羊城。

地点放在羊城奥体中心，可容纳8万人，挤一挤十万人也是可以的。

具体的后勤保证什么，陈诺听的索然无味，便离开了。

接下来的时间里，陈诺继续刷生物科学和神经科学、脑科学的书本，如此过了两三天后，那台吃灰的7nm光刻机终于运到了中科院的一个研究所的无尘车间内。

陈诺倒是想运到未来科技实验室，可这玩意有近200吨，他们实验室可没地方安置这个庞然大物。

“怎么样，第一次看到这个大家伙震撼吧！”

周正峰指着光刻机笑了。

为了将这台光刻机从江城运到京都，一路上可是拆了好几个收费站，足足花了六七天时间才弄到这里来。

陈诺围着这台号称人类智慧集大成的产物转了几圈，外部有着真空封闭的隔板，什么也看不到。

“陈教授，我们运过来简单，但这一路上的震动等等，肯定会有很大的误差，不经过一段时间的调试，是无法使用的。”

“浪费那个时间干嘛，调试好了也要被我拆掉的。”

陈诺摆了摆手：“只要能启动就行。”

“行了，您该忙啥忙啥吧，这里交给我。对了，再给我找几个身强力壮的人来，这玩意拆起来麻烦，下午两点前报到就行。”

周正峰咧嘴笑了一下后，转身就走。

等到所有人离去后，陈诺突然道：“一号，接管光刻机系统，切断信号。”

“收到，教授！”

“教授，已经接管，完成操作！”

几秒钟后，一号就传来了回应，效率相当的高。

陈诺拿过旁边的操作说明手册开启学神附身卡看了起来。

研究的时间相当的快，当他看完操作手册后，不得不感叹光刻机制造商的牛逼，还有比制造商更牛逼的设计师们。

只是再精密，今天也难逃被他拆掉的厄运。

第一天，陈诺将内部封闭框架等给拆掉了，这样设备的作用是将工作台与外部环境隔离，保持水平，减少外界震动干扰，并维持稳定的温度、压力。

第二天，测量台、曝光台被他弄下来了，这两个称之为双工作台系统，承载硅片的工作台。

……

第七天，能量控制系统也被他拆下来了，这个玩意控制最终照射到硅片上的能量，直接影响到芯片质量。

整整七天的时间，陈诺将这台价值5亿元的光刻机拆成了十二个子系统。

他对整个光刻机的组成部分了然于心，零部件啥的他可没那个闲心去研究。

每拆一个大部分，他都会对其中的一些部件、原理、远转等研究一翻。

看着眼前被拆的七零八落的光刻机，心中满是感慨。

这种级别的光刻机真如外国的专家所说，给我们全套图纸我们也是搞不出来，一是零部件的精度问题，二是组装精度问题。

这是任何一个国家或者公司能搞定的，涉及到了光学镜头、光源、轴承等等。

说amsl是制造商，不如说他们是设计商、组装商更为恰当，只要涉及的相关光源、镜片等等有一个卡了它，他们就彻底的完蛋。

可惜在政治的意图下，这种可能性不大。

这台光刻机使用的是fd-soi工艺，工艺在制造过程中相对简单，但是soi基片价格稍贵。

而陈诺的finfet工艺制造过程更为复杂，但基片价格便宜，让两者的实际制造成本相差不大。

但不管怎么说，至少是用另一种方式，绕过了国外设置的专利壁垒。

市面上有cmos、gan、soi三种，finfet将是第四种。

“周部长，你可以派人来接接收了，我这边暂时搞定了。”

陈诺用实验室的特殊电话给周正峰打了个电话。

“你搞定了？研究出啥了没？”

“你猜？”

“行吧，你等一会，我让中科院的微电子研究所的钱院长带人去接收。”

周正峰敢肯定陈诺一定研究出什么了，否则不可能出实验室。

打完电话，陈诺百无聊奈的看着被拆成了一地零件的光刻机，心里嘀咕了起来。

“系统，看在你家主人没有功劳也有苦劳的份上，总得给个技能鼓励一下吧！”

“别人的系统是要啥有啥，怎么到我这里你就这么怂呢？你是不是在你们系统界混的不咋滴？”

“你早点让我与世间无敌，你也早点回你们系统界交差不行吗？”

“你再不给技能，我就罢工了，让你社死！”

陈诺在心里将系统里里外外吐槽了一遍后，心中低喝了一声。

“系统，签到！”

“叮！签到成功，恭喜宿主获得finfet工艺改良技术框架。”

“我去，总算是给了个技能，真特么的不容易！”

陈诺在这个实验室内呆了七天，每天拆完机器就签到，结果连根毛都没有获得。

没想到都要走了，竟然获得了一个，难道威胁真的有用。

“叮！威胁系统，你是第一人，真他娘的是个人才，再威胁、辱骂系统，直接剥离一项技能！”

突如其来的声音让陈诺懵逼了。

自获得系统开始，系统一直都很冷淡，主动回应他的这是第三次，而且还是警告。

得咧，你是大爷，惹不起。

陈诺不再搭理系统，而是接收finfet工艺改良技术框架。

十几分钟，他眼中狂喜和震撼。

原本给finfet工艺能将精度从28nm推进到14nm，这段时间他不断的研究，有一种新的想法，或许可以从14nm提升到了7nm。

据他猜测7nm是finfet工艺的极限了，再想提升只能看euv光刻机。

可没想到这个给的finfet工艺改良技术框架最终可以达到5nm，这简直是超乎了他的想象。

若是真达到了5nm工艺，以碳基材料的特性，绝对能吊打2nm的硅基芯片。

从这一点上，国产光刻机已经可以开始崛起了。

但想要完全国产化可能还需要一段路要走，比如高端光源、镜片等。

以国内的自主研发的光刻机使用的光源和镜片，即便加在陈诺的这个finfet工艺，7nm是极限了。

饭要一口口吃，路要一步步走，有了现在这个技术，至少三年内在芯片领域不会被卡脖子了。

三年时间足够发生太多的事情，也许三年后他就于世间无敌了。


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